投影光刻機曝光光學系統研發及批量生產基地項     DATE: 2022-12-23 11:14

國望光學研發生產基地位于北京經濟技術開發區，規劃建筑面積12萬平方米，預計2023年投入運行后，將擁有350/280nm節點、90/110nm節點、28nm及以下節點極大規模IC制造投影光刻機曝光光學系統產品的研發、設計與批量生產供貨能力。國望光學基本定位是建立我國自主的超精密光學產業技術研發與生產體系，形成極大規模IC制造投影光刻機曝光光學系統、高端精密光學儀器與裝備的批量生產供貨能力，從根本上解決我國IC制造投影光刻機曝光光學系統及高端精密光學裝備的產業化問題。